PVD物理氣相沉積采用低電壓大電流的電弧放電技術,通過荷(hé)能粒子的轟(hōng)擊,將其吸引並沉積到工件表麵形成3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法可(kě)在工件表(biǎo)麵沉積類(lèi)金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層複合塗(tú)層。
離子束DLC:碳氫氣體在離子(zǐ)源中被離化成等離子體(tǐ),在電磁場的共同(tóng)作(zuò)用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調(diào)整加(jiā)在等離子體上的電壓來控製。碳氫離子(zǐ)束(shù)被引到基片(piàn)上,沉積速度與(yǔ)離子電流密度成正(zhèng)比。星弧塗層的離子束源采用高電壓,因而離子能量更大,使得(dé)薄膜與基(jī)片結合力很(hěn)好(hǎo);離子電流更大,使得DLC 膜(mó)的沉積(jī)速度更(gèng)快。
DLC膜層是一種由碳元素構成的類似鑽石的碳薄膜,具有(yǒu)優異的硬度、耐磨性和化學穩定性。在(zài)許多領域中,DLC膜層被廣泛應用於減摩、潤滑、防腐蝕等方麵。然而,熱膨脹(zhàng)是 DLC膜層應用過程中需要考慮的一個重要因素。
由於(yú)DLC膜層中(zhōng)含有(yǒu)較高比例的碳元素,其熱膨脹係數通(tōng)常較(jiào)低。這是因為(wéi)碳元素的原子(zǐ)半徑較(jiào)小,原子間的結合力較強,使得DLC層在溫度變化(huà)下的膨脹(zhàng)程度較小。此外,DLC膜層中還(hái)可能摻雜其他元素(sù),如氫、氮、矽等,這些元素的加入會對膨脹係數產生一定的影響。
1.硬度極高(超過Hv2000-Hv4500):代(dài)表耐(nài)性極好;
2.摩擦係數低(DLC=0.04):改善拉伸五金衝壓、成型的潤滑問題;
3.耐高溫(最高達到350℃):不容易氧化,改善幹切削和壓鑄成(chéng)型問題;化學屏障/導熱率(lǜ)低:可有效防止因高(gāo)溫導致硬質合金刀具的鑽元素流失(shī):改善壓鑄出現的熱(rè)龜裂問題;
4.厚度可控製在1-5微米以內:塗層後不影響產品的最終尺寸
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