PVD物理氣相沉積采用低電壓大電流的電弧放電技術，通過荷（hé）能粒子的轟（hōng）擊，將其吸引並沉積到工件表麵形成3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法可（kě）在工件表（biǎo）麵沉積類（lèi）金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層複合塗（tú）層。

離子束DLC:碳氫氣體在離子（zǐ）源中被離化成等離子體（tǐ），在電磁場的共同（tóng）作（zuò）用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調（diào）整加（jiā）在等離子體上的電壓來控製。碳氫離子（zǐ）束（shù）被引到基片（piàn）上，沉積速度與（yǔ）離子電流密度成正（zhèng）比。星弧塗層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得（dé）薄膜與基（jī）片結合力很（hěn）好（hǎo）;離子電流更大，使得DLC 膜（mó）的沉積（jī）速度更（gèng）快。

DLC膜層是一種由碳元素構成的類似鑽石的碳薄膜，具有（yǒu）優異的硬度、耐磨性和化學穩定性。在（zài）許多領域中，DLC膜層被廣泛應用於減摩、潤滑、防腐蝕等方麵。然而，熱膨脹（zhàng）是 DLC膜層應用過程中需要考慮的一個重要因素。

由於（yú）DLC膜層中（zhōng）含有（yǒu）較高比例的碳元素，其熱膨脹係數通（tōng）常較（jiào）低。這是因為（wéi）碳元素的原子（zǐ）半徑較（jiào）小，原子間的結合力較強，使得DLC層在溫度變化（huà）下的膨脹（zhàng）程度較小。此外，DLC膜層中還（hái）可能摻雜其他元素（sù），如氫、氮、矽等，這些元素的加入會對膨脹係數產生一定的影響。

DLC膜層參數

1.硬度極高(超過Hv2000-Hv4500):代（dài）表耐（nài）性極好;

2.摩擦係數低(DLC=0.04):改善拉伸五金衝壓、成型的潤滑問題;

3.耐高溫(最高達到350℃):不容易氧化，改善幹切削和壓鑄成（chéng）型問題;化學屏障/導熱率（lǜ）低:可有效防止因高（gāo）溫導致硬質合金刀具的鑽元素流失（shī）:改善壓鑄出現的熱（rè）龜裂問題;

4.厚度可控製在1-5微米以內:塗層後不影響產品的最終尺寸